什麽是（shì）PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物（wù）質（zhì）轉移，將原子或分子（zǐ）由源轉移（yí）到基（jī）材（cái）表麵上的過程。

它的作用是可以使某些有（yǒu）特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性（xìng）等）的微（wēi）粒噴塗在性（xìng）能較低的母體上，使得母體具有（yǒu）更好（hǎo）的性能。

PVD基（jī）本方法：真（zhēn）空蒸（zhēng）鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離（lí）子鍍、電弧離子鍍（dù）、活性反應離子鍍、射頻離（lí）子鍍、直流放電離子（zǐ）鍍）。

PVD 技術是目前國際上科（kē）技含量高且被廣泛應用的離子（zǐ）鍍膜技術，它具有 鍍（dù）膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低（dī）、可鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下，等（děng）離子場下的輝光反應，亦是一個高淨化處（chù）理過程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金（jīn）屬中（zhōng）最與人（rén）體皮膚具親和性能的，使得PVD 產品本身具備純淨（jìng）的環保（bǎo）性能。