磁（cí）控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材（cái）同在真空腔中。蒸發鍍（dù）膜一般是加熱靶材使表麵組分（fèn）以原子（zǐ）團或離子形式被蒸（zhēng）發出（chū）來（lái）。並且沉降在基片表麵，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單（dān）理解為（wéi）利（lì）用電子或高能激光轟擊靶材，並使表（biǎo）麵組分以原子團或離子形式（shì）被濺射出來，並且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。

使（shǐ）用步驟（zhòu）：
電控（kòng）櫃操作
1、開（kāi）水（shuǐ）泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維（wéi）持（chí）泵、真空計電源，真空計（jì）檔位（wèi）置V1位置，等待其（qí）值小於10後，再（zài）進入下一步操作。約需5分（fèn）鍾。
4、開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、並啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約（yuē）需20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵和高真空閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度（dù）後才能開右邊的高真（zhēn）空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能打開電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電源（yuán）：按電子槍控（kòng）製Ⅰ電（diàn）源、延（yán）時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流繼（jì）電器有故障，保（bǎo）護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左（zuǒ）右，簾（lián）柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏（piān）轉電流在1~1.7之間擺動。

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