對於真空鍍膜機設備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度（dù）下進（jìn）行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束（shù）外延（yán）鍍膜機和PLD激光（guāng）濺射沉積鍍膜機等很多種。

主要是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成（chéng）為基片（piàn），鍍的材料被成為（wéi）靶材（cái）。
基片與靶材同（tóng）在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使（shǐ）表（biǎo）麵組分以（yǐ）原（yuán）子團或離子形式被（bèi）蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成（chéng）膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟（hōng）擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式（shì）被濺射出來，
並且最終沉積（jī）在基片（piàn）表麵，經曆成膜（mó）過程，最終（zhōng）形成薄膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們（men）的組合製成的雙（shuāng）層水冷結構。

根據（jù）工（gōng）藝要（yào）求選擇不（bú）同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發（fā）真空鍍（dù）膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射（shè）真空鍍（dù）膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空（kōng）鍍膜設備、空心陰（yīn）極離子鍍和多弧（hú）離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據（jù）片尺寸及形狀提出相應要求（qiú），轉動的速度範圍及轉動精度：普通可調及（jí）變頻調速（sù）等。