一. 鍍層附著性能（néng）好 

普通真（zhēn）空（kōng）鍍膜時，蒸發料粒子大約隻（zhī）以一個電子伏特的能量向工（gōng）件表麵蒸鍍，在工（gōng）件表麵與鍍層之間，形成的界麵擴散深（shēn）度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微（wēi）米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發絲的百分之（zhī）一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層（céng），好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有三千到五千電子伏特的動（dòng）能。如果說普通真（zhēn）空鍍膜的粒（lì）子相（xiàng）當（dāng）於一個氣喘籲籲的長（zhǎng）跑運動員，那麽離子（zǐ）鍍的粒子則好似乘坐了高速（sù）火箭的乘客，當其高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表（biǎo）麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真（zhēn）空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對（duì）離子（zǐ）鍍後（hòu）的試件作拉伸試驗表（biǎo）明，一直拉（lā）到快要斷（duàn）裂時（shí），鍍（dù）層仍隨基體金屬一起（qǐ）塑性延伸，無（wú）起皮或剝落現（xiàn）象發生。

二.繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發（fā）料粒子是以帶電離子的形式在（zài）電場中沿著電力線方向（xiàng）運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普（pǔ）通真空鍍（dù）膜隻能在直射方（fāng）向上獲得（dé）鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合於（yú）鍍複零件上的內孔、凹槽和窄縫（féng）。用普通真空鍍膜隻能鍍直射（shè）表麵，蒸發料粒子尤（yóu）如（rú）攀（pān）登雲梯一樣（yàng），隻順梯而上；離子鍍則能均勻地繞鍍到（dào）零件的背麵和內孔中，帶電離（lí）子則好比坐上了直升飛機，能夠沿（yán）著規定的航線飛抵其活動半徑範圍內的任何地方。

三. 鍍層質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無針（zhēn）孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱（léng）麵和凹（āo）槽都可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍複，由（yóu）於這種工藝方法還能修補工件表麵的微（wēi）小裂紋和麻點等（děng）缺陷（xiàn），故可有效地改善被鍍零件的表麵質量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果處理（lǐ）得當（dāng），工件疲勞壽命（mìng）可比鍍前（qián）高百分之二、三十.