真空鍍膜機電化學沉積指的是用電化學方法在金屬或非（fēi）金屬（shǔ）製件表麵沉積一層或多層金屬鍍層或合金鍍層或複合鍍層的技術。通常（cháng）是，表麵具有導電（diàn）能力的製件，於電解質溶（róng）液中，被置於陰極，在外電流的作用下，該溶液中的金屬離子，或絡合（hé）離子在製件表麵，即陰極表麵發生還原反應，使金屬沉積在製件的（de）表（biǎo）麵（miàn），這一過程（chéng）又叫金屬電沉積，俗稱電鍍。用真（zhēn）空鍍膜設備電鍍的方法可以在金屬或非金屬製件表（biǎo）麵得到功能各異的多種鍍層，滿足在不同環境中對製件的使用要求（qiú）。
　　它們涉及四大類：耐腐蝕、抗氧化（huà）；耐磨損、減摩；裝飾、美化；聲、光、磁、電的轉換，以及其他方麵如催化、殺（shā）菌等。內（nèi）容包括單金屬鍍層、合金（jīn）鍍層、複合鍍層、磷化、鈍化、化學氧（yǎng）化、電化學氧化等。目（mù）前研究方向包括：合金（jīn）電鍍、激光電鍍、微粒彌散複合（hé）電鍍、纖維增強複合電鍍、梯度（dù）功能複合電鍍（dù）、微弧氧化、納米電（diàn）龜（guī）鍍與納米多層膜（mó）電鍍等。怎麽挑選（xuǎn）市場上形形色色的真空設備?真空鍍膜機電鍍層設計的選用要在了解它（tā）們的特性、設計依據、適用範圍、不宜或不允許（xǔ）使用範圍的基礎上（shàng）進行，進而確定厚度係列與工藝。
　　雖然，它在表麵處理技（jì）術（shù）中的（de）曆史（shǐ）較長，工（gōng）藝也比較成熟，但（dàn）隨著現代工業和（hé）技術的飛速發（fā）展，對真空鍍膜設備電鍍層的（de）功能性要求越來越高（gāo），如高的耐腐蝕（shí）性、抗氧化性、良好的導電性、高（gāo）硬度、高的耐磨性以及某些特殊的物理、化學特性，像特殊的電學（xué）性質、磁學（xué）性質、半導體性能以及超導（dǎo）性能等，電（diàn）鍍新技術也不斷在發展。

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