如何（hé）掌控（kòng）真空鍍膜的（de）均勻性
我們先來認識下怎（zěn）麽調試鍍膜（mó）機（jī），因為（wéi）掌握調（diào）試鍍膜機是使用鍍膜（mó）機的關鍵怎麽調試鍍膜機（jī）
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中（zhōng）檢（jiǎn）查漏氣情況與各真空泵的性能（néng）；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如（rú）果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄人簽字以及有使用部門（mén）或工程部門的人確認（rèn）簽（qiān）字（zì）

怎麽掌（zhǎng）控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的不同（tóng）分（fèn）為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空（kōng）鍍膜（mó），影（yǐng）響均勻性的因素也不（bú）盡相同。並且均勻性這個概念本（běn）身也會隨著鍍膜尺度（dù）和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一下：

均勻（yún）性主要（yào）體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙（cāo）度，在光（guāng）學（xué）薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為（wéi）單位，約（yuē）為（wéi）100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧（hú）離子鍍（dù）膜機的光學（xué）特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但（dàn）是如果是指原子層尺（chǐ）度上的均（jun1）勻度，也就是（shì）說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現（xiàn）在真空鍍膜中主要的技術含量與（yǔ）技術瓶頸所（suǒ）在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物（wù）的原子組分會由於尺度過小而很容易（yì）的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜（mó），如果濺控（kòng）濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表（biǎo）麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術（shù）中的熱點問題。 

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