氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜來說是（shì）極其重要（yào）的，通過機械結構設計，使氣體（tǐ）密度的變化率在濺射沉積（jī）區域（yù）內的盡量小。

而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽（chōu）氣係統的效率。

控製氣體分布的機（jī）械部件或結構包括（kuò）布（bù）氣係統、真空室的結構、抽氣係統等三個部分。