真空蒸（zhēng）發（fā）鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利（lì）用高溫（wēn）加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到（dào）一定溫度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃（lí）基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由（yóu）於真空蒸鍛（duàn）法的主（zhǔ）要物理過程是通過加熱蒸發材（cái）料而產生，所以又（yòu）稱熱蒸發法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件（jiàn），

大多數蒸發材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的不同可（kě）分為電阻法（fǎ）、電子束蒸發法、高頻感應法和激（jī）光蒸（zhēng）發法等。