如何掌控真（zhēn）空鍍膜的均（jun1）勻性
我（wǒ）們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設（shè）備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣（qì）情況與各真空泵的性能；
2、測（cè）試（shì）設備（bèi）的密封性能，就是抽到極限後保（bǎo）壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳（chuán）動、加熱、絕緣等（děng）等；
4、如果（guǒ）有工藝保證的話就繼（jì）續打（dǎ）樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄人簽字以及有使用部門或工（gōng）程部門的人確（què）認簽字

怎（zěn）麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車（chē）燈鍍膜機原理的不同分為很多種類，僅僅因（yīn）為都需（xū）要高真空度而擁有統一名稱。所以對於（yú）不同原理的真空鍍膜（mó），影（yǐng）響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下（xià）麵分別說一下：

均（jun1）勻性主要體現在3方麵：
1、厚度（dù）上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光（guāng）學（xué）薄膜的尺度上看（也就是1/10波（bō）長作為單位，約為100A），真空鍍（dù）膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將（jiāng）粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離（lí）子鍍膜機的光學（xué）特性來說（shuō），真空鍍膜沒有（yǒu）任何障礙。但是如果是指（zhǐ）原（yuán）子層尺度上的均勻度，也（yě）就是說要實現10A甚（shèn）至1A的表（biǎo）麵平整，是現在真空（kōng）鍍膜中主要的技術含（hán）量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很（hěn）容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如（rú）果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成（chéng）分，這也是真空鍍（dù）膜的技術含量（liàng）所在。
3、晶格有序度的均勻（yún）性：這決定了薄膜是（shì）單（dān）晶，多（duō）晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

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