CJ係列磁控濺射真空鍍(dù)膜機

日期:2016-01-16 13:28:37 人氣:83706

CJ係列磁控濺射真空鍍膜機(jī)

工作(zuò)原理

CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理,所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體(tǐ)表麵原子從母體中逸(yì)出的現象。早在(zài)1842年Grove在實驗(yàn)室中就發現了這種現象。磁控(kòng)濺射靶采用靜(jìng)止電磁(cí)場,磁場為曲線形,均(jun1)勻電場和對數電(diàn)場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用(yòng)下,加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若(ruò)電子具有足夠的(de)能量(約(yuē)為30ev)時,則電離出Ar+並產生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用(yòng)下,加速(sù)飛向陰極(濺射(shè)靶)並以高能量轟擊靶表麵,使靶材發生濺射。 

應用範圍

廣泛應用(yòng)於家電電器、鍾表、高爾夫球(qiú)頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工(gōng)模具的功(gōng)能塗層,在鍍製(zhì)超黑膜(mó)、純金裝飾膜、導電膜等領域有優(yōu)勢。

產品(pǐn)特點

1)、膜厚(hòu)可控性和重複性好。能(néng)夠可靠的鍍(dù)製預(yù)定(dìng)厚(hòu)度的(de)薄(báo)膜,並且濺射鍍膜(mó)可以在較大的表麵(miàn)上獲得厚(hòu)度均勻的膜層;
2)、薄膜與基片的附著力強。部分高(gāo)能量的濺射原子產生不同程度的(de)注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基(jī)片原子相互溶合的(de)偽擴散層;
3)、製備特殊材料的薄膜,可(kě)以使用不同(tóng)的材(cái)料同時濺射製備混合膜(mó)、化合膜,還(hái)可濺(jiàn)射成TiN仿金膜;
4)、膜層純度高,濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低(dī)溫離子輔助源,無需加(jiā)熱直接常(cháng)溫冷鍍成膜(mó),節能省電,提高產能。

技術參數表

CJ係列磁控濺射真空鍍膜機     
型號(hào)CJ-600CJ-800CJ-1000CJ-1200CJ-1400CJ-1500CJ-1600
真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散(sàn)泵機(jī)組KT500擴散泵機組KT800擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴(kuò)散(sàn)泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴(kuò)散泵機組
鍍膜係統直流或中頻電源、鍍膜輔助離子專用電源
充氣(qì)係統質量流量計質量(liàng)流量(liàng)計質量(liàng)流量計(jì)質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計
控製方式手(shǒu)動或全自動手(shǒu)動或全自動手動或全自動手動(dòng)或全自動手動或(huò)全自動手動(dòng)或(huò)全自動手動或全(quán)自動
極限真空5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa
備注以上(shàng)設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
友情鏈接: 三菱伺服電機  鐵件鍍錫  粉塵檢測儀  鋼筋桁架樓(lóu)承板  環氧自流平施(shī)工  紅木家具  法蘭盤  水穩攪拌站  端子截麵分析儀  鈹銅板 
版權所有 © 昆山(shān)香蕉爱视频真空技術工程(chéng)有限公司 Copyright 2016 All Rights Reserved
  技術支持:昆山果橙網絡  蘇ICP備16002609號-1  後台(tái)登陸 網站地圖  XML
香蕉爱视频|亚洲香蕉视频|香蕉视频在线下载|91香蕉视频