CJ係列磁控濺射真空鍍(dù)膜機
日期:2016-01-16 13:28:37 人氣:83706
CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理,所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體(tǐ)表麵原子從母體中逸(yì)出的現象。早在(zài)1842年Grove在實驗(yàn)室中就發現了這種現象。磁控(kòng)濺射靶采用靜(jìng)止電磁(cí)場,磁場為曲線形,均(jun1)勻電場和對數電(diàn)場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用(yòng)下,加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若(ruò)電子具有足夠的(de)能量(約(yuē)為30ev)時,則電離出Ar+並產生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用(yòng)下,加速(sù)飛向陰極(濺射(shè)靶)並以高能量轟擊靶表麵,使靶材發生濺射。
廣泛應用(yòng)於家電電器、鍾表、高爾夫球(qiú)頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工(gōng)模具的功(gōng)能塗層,在鍍製(zhì)超黑膜(mó)、純金裝飾膜、導電膜等領域有優(yōu)勢。
1)、膜厚(hòu)可控性和重複性好。能(néng)夠可靠的鍍(dù)製預(yù)定(dìng)厚(hòu)度的(de)薄(báo)膜,並且濺射鍍膜(mó)可以在較大的表麵(miàn)上獲得厚(hòu)度均勻的膜層;
2)、薄膜與基片的附著力強。部分高(gāo)能量的濺射原子產生不同程度的(de)注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基(jī)片原子相互溶合的(de)偽擴散層;
3)、製備特殊材料的薄膜,可(kě)以使用不同(tóng)的材(cái)料同時濺射製備混合膜(mó)、化合膜,還(hái)可濺(jiàn)射成TiN仿金膜;
4)、膜層純度高,濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低(dī)溫離子輔助源,無需加(jiā)熱直接常(cháng)溫冷鍍成膜(mó),節能省電,提高產能。
CJ係列磁控濺射真空鍍膜機 | | | | | |
型號(hào) | CJ-600 | CJ-800 | CJ-1000 | CJ-1200 | CJ-1400 | CJ-1500 | CJ-1600 |
真空室尺寸 | Φ600×800MM | Φ800×1000MM | Φ1000×1200MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1500×1500MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散(sàn)泵機(jī)組 | KT500擴散泵機組 | KT800擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴(kuò)散(sàn)泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴(kuò)散泵機組 |
鍍膜係統 | 直流或中頻電源、鍍膜輔助離子專用電源 |
充氣(qì)係統 | 質量流量計 | 質量(liàng)流量(liàng)計 | 質量(liàng)流量計(jì) | 質量流量計 | 質量流量計 | 質量流量計 | 質量流量計 |
控製方式 | 手(shǒu)動或全自動 | 手(shǒu)動或全自動 | 手動或全自動 | 手動(dòng)或全自動 | 手動或(huò)全自動 | 手動(dòng)或(huò)全自動 | 手動或全(quán)自動 |
極限真空 | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa |
備注 | 以上(shàng)設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |