CJ係列磁（cí）控濺射真空鍍（dù）膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺（jiàn）射”就是用荷能粒（lì）子（通常用（yòng）氣體正離子）轟擊物體，從而引起物（wù）體表麵原子從母體（tǐ）中逸出的現象。早在1842年（nián）Grove在實驗室（shì）中就發（fā）現了這種（zhǒng）現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均（jun1）勻電場（chǎng）和（hé）對數電場則分別（bié）用於平麵靶和同軸（zhóu）圓柱靶。電子在電場作用下（xià），加速飛向基片的（de）過程中與氬原子發生碰撞（zhuàng）。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生（shēng）電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用（yòng）於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩（wán）具、車燈反光（guāng）罩、手機按鍵外（wài）殼（ké）以及儀器儀表、塑料、玻璃（lí）、陶瓷（cí）、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電（diàn）膜等領（lǐng）域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠（gòu）可靠的鍍製預定（dìng）厚度的薄膜，並且濺射鍍（dù）膜可以在較大的表麵上獲得厚度（dù）均勻的（de）膜層；
2）、薄膜與基片（piàn）的附著（zhe）力強（qiáng）。部分（fèn）高能（néng）量的濺射原子產生不同程度的（de）注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散（sàn）層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同（tóng）時濺射製備混合膜、化合膜（mó），還可濺射成TiN仿金膜（mó）；
4）、膜層純度高，濺射膜層中（zhōng）不會混入坩鍋（guō）加熱（rè）器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔（fǔ）助源，無（wú）需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高（gāo）產能。